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考夫曼射频离子源RFICP220溅射沉积 ZnNi 合金薄膜

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  • 发布日期:2021-03-19 13:46
  • 有效期至:长期有效
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详细说明
   沈阳某大学课题组采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 射频磁控溅射沉积方法制备了不同成分的 ZnNi 合金薄膜并研究了真空热处理对其成分及表面形貌的影响.

 

采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 磁控溅射沉积的 ZnNi 合金薄膜使合金成分均匀使薄膜致密并且附着性好.

 

伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:

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离子源型号

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RFICP220

portant;">

Discharge

portant;">

RFICP 射频

portant;">

离子束流

portant;">

>800 mA

portant;">

离子动能

portant;">

100-1200 V

portant;">

栅极直径

portant;">

20 cm Φ

portant;">

离子束

portant;">

聚焦,   平行,   散射

portant;">

流量

portant;">

10-40 sccm

portant;">

通气

portant;">

Ar,   Kr,   Xe,   O2,   N2,   H2,   其他

portant;">

典型压力

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< 0.5m Torr

portant;">

长度

portant;">

30 cm

portant;">

直径

portant;">

41 cm

portant;">

中和器

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LFN 2000

可选灯丝中和器可变长度的增量

 

实验室材料:

实验采用 55mm x 3mm 的高纯度锌靶 (含量wt%>99.99) 和纯镍片 (含量wt%>99.95) 组成的镶嵌靶调整镶嵌靶 Zn  Ni 的面积比以获得不同成分的 ZnNi 合金膜溅射基底采用石英玻璃片.

 

研究结果表明

在单靶溅射沉积ZnNi合金薄膜中通过调节靶材锌镍面积比可以获得不同成分且分布均匀的ZnNi薄膜经过600℃、60 min、真空度为4×10-3Pa, 真空热处理之后的薄膜中的锌完全蒸发剩下的镍薄膜呈多孔结构微孔尺寸在100 nm500 nm之间随着薄膜锌含量的增加真空热处理后薄膜表面孔隙率增大随着真空热处理温度的升高微孔尺寸增大.

 

KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.

 

因此,  该研究项目才采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射沉积工艺.

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵,   检漏仪,   质谱仪,   真空计,   美国 KRI 考夫曼离子源,   美国HVA 真空阀门,   美国 inTEST 高低温冲击测试机,   美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理.

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论,   请参考以下联络方式:

上海伯东罗先生                               台湾伯东王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
 


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